為了維持脫硫裝置漿液循環(huán)系統(tǒng)物質(zhì)的平衡和保證石膏質(zhì)量，必須從系統(tǒng)中排放一定量的廢水來(lái)降低雜質(zhì)濃度。1產(chǎn)生原因脫硫廢水的成因是因?yàn)槊汉兔摿騽ㄊ沂┮约肮に囁泻蠧l-及其他成分的雜質(zhì)。同時(shí)燃煤和石灰石中還含有其他的各種金屬離子及惰性物質(zhì)。這些雜質(zhì)都會(huì)在吸收塔的循環(huán)系統(tǒng)中逐漸富集起來(lái)。這樣的后果是既會(huì)降低脫硫效率，同時(shí)對(duì)脫硫副產(chǎn)品石膏的品質(zhì)也有影響。所以脫硫廢水必須排放。廢水排放通常從廢水旋流器溢流液排放。2煙氣脫硫廢水水質(zhì)特征脫硫廢水中污染物的品種和含量與很多因素有關(guān)，如煤的產(chǎn)地、品種、除塵器效率、FGD運(yùn)行方式、吸收劑細(xì)度和雜質(zhì)含量、工藝水水質(zhì)以及脫水設(shè)備、石膏品質(zhì)要求等。2000-S-P/2000-S-10二硫化鉬閥門(mén)潤(rùn)滑脂從運(yùn)行電廠(chǎng)所排放的廢水水質(zhì)分析結(jié)果進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析，可以看出：1）脫硫廢水的pH值較低，一般為4-6.5，呈酸性，與漿液的pH相同或略高。2）含大量的懸浮物，主要為石膏顆粒、SiO鋁和鐵的氫氧化物，懸浮物質(zhì)量分?jǐn)?shù)通常為9-127mg/L。為此，本文發(fā)了一種稱(chēng)之為拍照法的組件編碼識(shí)別技術(shù)，該法利用防爆相機(jī)(石化企業(yè)性質(zhì)決定)按照一定順序?qū)︻A(yù)實(shí)施LD：R的企業(yè)進(jìn)行拍照，對(duì)照片中存在的泄漏組件進(jìn)行編碼，并 終形成一套全廠(chǎng)級(jí)別的組件編碼記錄，拍照人員在實(shí)施過(guò)程中可人為控制每張照片中所存在的泄漏元件數(shù)量，以每幅圖不超過(guò)3個(gè)組件為宜。2000-S-P/2000-S-10二硫化鉬閥門(mén)潤(rùn)滑脂目前尚無(wú)針對(duì)石化行業(yè)實(shí)施LD：R流程的拍照法組件編碼識(shí)別技術(shù)的具體步驟和方法，該法簡(jiǎn)單易操作，在石化行業(yè)具有很好的應(yīng)用前景。于拍照法的組件編碼識(shí)別石化行業(yè)泄漏設(shè)備中可能發(fā)生泄漏的元件及其編碼